半導體是作為一種電子性質介于導體和絕緣體之間的材料，具有重要的電子學和光電學性質，廣泛用于電子、光電和信息技術領域。其在制造過程中需要清洗的超純水，幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水，為了更好地為半導體生產清洗用水供給，超純水設備也在增加生產力度。

　　目前，半導體生產中應用的超純水設備摒棄了傳統工藝，核心是采用的膜法技術，應用反滲透工藝與EDI和混床工藝來生產超純水，不僅產水量增加，出水電導率可達18.2mΩ， 滿足了芯片行業用水需求。

　　該超純水設備采用的核心工藝組成介紹如下：

　　1、反滲透工藝：利用反向滲透原理，有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等，降低水質的離子含量。

　　2、EDI模塊：無需酸堿再生，運行成本低，EDI系統的自動化程度很高，可以連續工作，出水水質好且穩定，出水電阻率≥15MΩ·CM。

　　3、拋光混床工藝：專門用于高純度的水處理系統中的終端精制器，能夠將水中的離子含量降到PPB級別，出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

　　以上，介紹的工藝就是目前半導體生產應用的超純水設備核心工藝組成。萊特萊德北京超純水設備在保證出水達標的同時，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節，為半導體生產提供了高品質的超純水。

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　　編輯：柒柒   技術：米